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Taiwán encarga a Multibeam la plataforma de litografía de chips sin fotomáscaras
La NTHU de Taiwán instalará la plataforma de litografía por haz de electrones MBX de Multibeam en 2027, lo que permitirá la creación de prototipos de chips sin fotomáscaras.
Imagen: iXBT
Multibeam ha recibido su primer pedido en Taiwán: la National Tsing Hua University (NTHU) instalará la plataforma MBX de litografía por haz de electrones multihaz de la compañía para investigación y desarrollo de tecnologías microelectrónicas de próxima generación. La entrega está programada para 2027.
El sistema se desplegará en el Colegio de Investigación en Semiconductores de la NTHU. La universidad planea usarlo para proyectos académicos y para trabajos de desarrollo conjunto con los mayores fabricantes de chips de Taiwán.
Cómo MBX dibuja diseños de chips sin fotomáscaras
La principal ventaja de MBX es que elimina las fotomáscaras tradicionales. En su lugar, varios haces de electrones escriben el patrón del chip directamente sobre una oblea de silicio. Ese enfoque puede acelerar la producción de nuevos prototipos una vez completado el diseño, acortando los ciclos de desarrollo y reduciendo los costes.
Según los desarrolladores de Multibeam, la plataforma combina alta precisión con alto rendimiento. Las aplicaciones potenciales incluyen:
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- Paquetes semiconductores avanzados
- Componentes fotónicos
- Dispositivos cuánticos
- Aceleradores especializados para inteligencia artificial
El contrato es estratégicamente significativo para Multibeam. Taiwán es un centro mundial de fabricación de semiconductores avanzados, por lo que la instalación en la NTHU es la primera de la compañía en la región y podría abrir el acceso a los principales fabricantes de chips y a uno de los mercados más prometedores de la industria.
Computing Editor
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vía iXBT
