China inicia la producción de escáneres DUV a pesar de la brecha con ASML

Los fabricantes chinos han empezado la producción en serie de escáneres de litografía DUV, pero sus equipos siguen estando varias generaciones por detrás de ASML en rendimiento y fiabilidad. Según se informa, los sistemas son herramientas de inmersión utilizadas para chips en nodos de proceso anteriores a EUV, incluidos los estratégicamente importantes de la clase de 28 nanómetros y tecnologías afines.

Según fuentes citadas por Reuters, Shanghai Aishengna Electronic Technology Group ya ha empezado el ensamblaje en masa del equipo. Se espera que la compañía construya solo cinco sistemas de litografía en 2026, seguidos de aproximadamente 20 en 2027. Esos volúmenes son pequeños según los estándares de la industria de semiconductores, pero destacan en un contexto en el que China afronta estrictas restricciones sobre equipos semiconductores occidentales y continúa intentando localizar partes críticas de la cadena de suministro.

Los posibles clientes iniciales, según se informa, incluyen a SMIC, HuaHong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies. Estas empresas suelen mencionarse en las discusiones sobre compras chinas de equipos de litografía, particularmente en los casos en que las herramientas nacionales podrían reemplazar parcialmente las importaciones.

Escáneres DUV chinos frente a ASML

El esfuerzo local en DUV está vinculado a ingenieros de Shanghai Yuliangsheng, SMEE y equipos relacionados. En los últimos años, esos grupos han trabajado en escáneres nacionales mientras SMEE dirigía más atención hacia equipos EUV. Informes de la industria han sugerido que los proyectos se nutren de una reserva compartida de personal y tecnología en lugar de desarrollarse de forma completamente independiente.

Recomendado

Filtración del Galaxy Tab S12 Ultra apunta al Dimensity 9500

Incluso si la producción escala según lo planeado, la tecnología sigue siendo un esfuerzo de recuperación. Expertos occidentales citados por la fuente estiman que los sistemas chinos destinados a la producción de chips de 28 nanómetros van rezagados respecto a las alternativas extranjeras por unas cuatro generaciones. Asimismo, supuestamente quedan muy por detrás en fiabilidad y rendimiento.

Se afirma que la SSA800, asociada al desarrollo doméstico, logra un rendimiento de unas 150 obleas de silicio por hora. Sin embargo, sigue muy lejos del objetivo de una tasa de rendimiento del 90–95%, según la fuente. Esa diferencia importa porque la cifra nominal de obleas por hora de un escáner no determina por sí sola cuántos chips utilizables puede producir una fábrica.

El déficit se extiende más allá del propio escáner. China aún tiene que importar fuentes láser, ópticas, espejos y software de control, lo que deja a los fabricantes de equipos nacionales dependientes de proveedores externos. La ventaja de ASML no se limita, por tanto, al diseño de la máquina: la empresa neerlandesa ha dedicado décadas a construir un amplio ecosistema de proveedores, mientras China intenta ensamblar una red comparable, pieza a pieza, bajo la presión de las sanciones.

Qué cambian los primeros volúmenes de producción

Para las fábricas chinas, incluso cinco sistemas en 2026 y aproximadamente 20 al año siguiente podrían reducir modestamente la dependencia de equipos importados en contextos donde la EUV sigue siendo inaccesible y la DUV continúa siendo la principal herramienta de producción. El desarrollo es especialmente significativo porque China invierte fuertemente en su cadena de suministro de semiconductores mientras Estados Unidos y sus aliados restringen el acceso a herramientas de fabricación avanzadas.

La reacción del mercado mostró lo sensibles que son los inversores a cualquier signo de progreso. Las acciones de ASML cayeron más del 13% a comienzos de la semana, mientras que las de Infineon Technologies bajaron un 15.5%. Esos movimientos no demuestran que las herramientas chinas puedan competir con ASML, pero subrayan la atención que se presta a las alternativas nacionales.

La fuente también enfatiza que la historia de Aishengna sigue basándose en parte en expectativas e informes. No está claro qué tan rápido la compañía puede entregar los sistemas planeados, cuántos llegarán a la producción real y si las fábricas chinas podrán usarlos para conseguir una producción de chips estable y a gran volumen. Los envíos reales y los resultados manufactureros sostenidos —no los rumores— determinarán si esto es el inicio de una localización más amplia de la litografía o otro paso intermedio en el esfuerzo de China por alcanzar a ASML.